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艾博納微納米科技(江蘇)有限責任公司

PRODUCT DISPLAY

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有掩膜光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號:ABN-MLM-002

品       牌:ABNER/艾博納

廠商性質:生產商

所  在  地:淮安市

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更新時間:2025-08-01 08:49:10瀏覽次數:236次

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艾博納有掩膜光刻機(ABN-MLM-002)采用高穩(wěn)定性的紫外光源及優(yōu)良光學系統(tǒng),具備精準的掩膜與樣品對準功能,實現(xiàn)微米及亞微米級圖案的
高保真轉印。該設備支持多種曝光模式,包括接觸式和近接式曝光,適配多尺寸襯底,兼容多種光刻膠,滿足科研及中小批量半導體制造、微機電系統(tǒng)(
MEMS)和光電子器件等領域的需求。系統(tǒng)具有人性化操作界面與自動化控制模塊,確保曝光過程穩(wěn)定高效,提升產品良率和重復性。

ABN-MLM-002 有掩膜光刻機是艾博納自主研發(fā)的一款高精度微納圖案轉印設備,采用高穩(wěn)定性紫外光源與優(yōu)良光學系統(tǒng),支持接觸式和近接式多模式曝光,適用于微米及亞微米級圖案的高保真轉印。該設備廣泛應用于科研院所及中小批量半導體制造、MEMS 微機電系統(tǒng)、光電子器件等微納制造領域。

有掩膜光刻機整機配置高強度汞燈或i-line/LED光源,光強密度≥50 mW/cm2,均勻性≥90%,光強穩(wěn)定性±2%,確保圖案曝光穩(wěn)定一致。光學系統(tǒng)采用準直透鏡聯(lián)合均勻化裝置和高分辨率曝光物鏡,具備≤2 μm接觸式、≤5 μm近接式的分辨能力,1:1 等倍投影精度滿足高精制程要求。

集成高倍率CCD成像系統(tǒng)與十字線疊加輔助對準功能,對位精度可達 ≤2 μm;搭配高精度X/Y/Z電動平臺,重復精度優(yōu)于1 μm。控制系統(tǒng)支持軟件和觸摸屏雙模式控制,曝光參數可編程設定,具備USB、RS232、Ethernet等通信接口,提升操作便捷性與系統(tǒng)兼容性。

此外,ABN-MLM-002 支持多種可選模塊,如自動掩膜更換系統(tǒng)、自動對位識別系統(tǒng)、真空吸附樣品臺、伺服納米級電控平臺等,為高效精密光刻工藝提供全面保障,是科研與產業(yè)橋接的重要裝備之一。



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